低圧環境での高周波プラズマ源は、半導体製造装置における重要技術であり、近年では宇宙推進技術への展開が進められています。本講演では、本学で進めている外部磁場を活用した高密度・高周波プラズマ生成・制御に関する研究、宇宙推進技術開発、プラズマプロセス装置開発等に関して紹介します。