クリーンルーム（半導体）コース
ナノ・スピン実験施設では、半導体や各種デバイスの研究に必要な微細加工を行うクリーンルームを運用しています。電子線やレーザーを用いた微細パターンの描画をはじめ、電子顕微鏡などによる観察・評価、薄膜の形成、材料の加工まで、試料作製に必要な設備を備えています。本コースでは、クリーンルーム内の設備をご覧いただきながら、設計データから試料ができるまでの流れや、大学内外の研究を支える技術支援の取り組みをご紹介します。
＜関連リンク＞
・電気通信研究所 ナノ・スピン実験施設HP
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見学情報について
【1回あたりの所要時間】30分程度
【1回あたりの定員】10名
【見学時間】
（1回目）14:10-14:40
（2回目）15:40-16:10
【共同利用可能な装置の有無】
・ 電子線描画装置（JBX-8100FS）
・ レーザー描画装置（DWL66+）
・ 電界放出形走査電子顕微鏡（SU8600）
【1回あたりの定員】10名
【見学時間】
（1回目）14:10-14:40
（2回目）15:40-16:10
【共同利用可能な装置の有無】
・ 電子線描画装置（JBX-8100FS）
・ レーザー描画装置（DWL66+）
・ 電界放出形走査電子顕微鏡（SU8600）
研究室のシーズ・ニーズ紹介
クリーンルーム内の各種設備を用いた加工のうち、特にレジスト（感光性材料）を用いて微細な回路パターンを形成するリソグラフィについて、技術職員による受託対応を行っています。電子線描画装置やレーザー描画装置、フォトマスクを用いたパターン形成をはじめ、レジスト塗布、現像、形成したパターンの観察・評価まで一連の工程に対応しています。様々な材料や研究目的に応じた試作・条件検討について、共同利用や技術連携を進めています。
